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RTP-1200快速退火爐

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產品簡介

產品概要: 韓國Ecopia公司生產,樣品尺寸:15mm X 20mm。RTP-1200特點:使用單相電,普通照明電即可使用;風冷設計、無須采購冷水機;真空退火,可以使用氫氮混合氣(

詳細介紹

RTP-1200小型快速退火爐(RTP/RTA)為韓國進口的快速退火爐。
該儀器:尺寸小巧,使用風冷、無須水冷,電流要求不高(3安培),性價比高,使用方便,非常適合科研院所的科研使用。

技術規格:
  - 加熱方式:紅外鹵素燈,600W;
  - 紅外燈數量:4支;
  - 升溫速率:100℃/秒;
  - 降溫速率:50秒(1000℃ → 400℃);
  - 溫度:1200℃;
  - 溫度精度:+/-0.3℃
  - 樣品尺寸:15 x 20mm;
  - 退火環境:真空、惰性氣體、空氣、其他工藝氣氛(如氧氣、氫氮混合氣等);
  - 真空泵及極限壓力:機械泵,10-3Torr水平(選配);
  - 電壓:220 V,單相;
  - 儀器尺寸:400*300*450mm (W*D*H);
  - 質量:凈重30Kg;

 

儀器特點:

  • 可在真空/不同氣氛/空氣不同環境下,對樣品進行快速熱處理;
  • 溫控精度高;
  • 無須配置冷水機;
  • 無須使用三相電,普通實驗室單相電即可使用;
  • 緊湊的臺式設計;
  • 儀器操作方便,樣片裝取容易;
  • 適合高校或研究所科研使用;
  • 價格合理,高性價比;
  •  

應用領域:

  • 快速熱退火 (Rapid Thermal Annealing, RTA);
  • 快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation, RTO);
  • 快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation, RTN);
  • 硅化 (Silicidation);
  • 擴散 (Diffusion);
  • 化合物半導體退火 (Compound Semiconductor Annealing);
  • 離子注入后退火 (Implant Annealing);
  • 電極合金化 (Contact Alloying);
  • 晶體化和致密化 (Crystallization and Densification);
  • 合金熔點分析;
  • 薄膜沉積;
  • 等等…

 

參考用戶:
北京大學、南京大學、吉林大學、湖南大學、廣西大學、齊齊哈爾大學、西北大學、中科院北京納米所、中科院蘇州納米所、蘇州EST等。

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