紫外光源機型有功率 : 350W，500W，1000W，2000W，3500W，5000W 。

曝光光源尺寸 : 4″，6″，8″，10″，12″ 。

波長 : NUV (含365nm， 400nm，435nm) 光源平行半角 : 1.5~2.5度 (依出光口徑)。

均勻度 : +-3~5% ，高壓汞燈泡及電源供應器。

正面對準影像系統采用可變倍率鏡頭方便對準操作，標準倍率50X-300X，

配合CCD影像系統，19″ LCD螢幕 打光有LED同軸光或環形光， 觀測的兩點間距4cm-15cm ，

可選配鏡頭掃描臺以快速移動鏡頭， 背面對準影像系統采用多段倍率鏡頭或固定倍率鏡頭，

雙CCD攝影機影像系統，切換使用上影像LCD螢幕LED同軸打光， 兩組背對準影像處理器，

鏡頭前后左右上下微調約10mm， 可加裝破片對位用菱鏡組。

光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式 4″， 5″，6″，7″， 9″ 。

晶圓真空 Chuck : 2″， 4″，6″，8″ 圓形或方形， 具光罩晶圓水平校正功能。

曝光模式有 : 真空接觸式與近接式，可調整真空吸附力大小， X，Y軸調整10mm，調整解析度2um， Z軸可調整5mm， 千分表解析度1um， 上光罩開啟以取放基板。

采PLC半自動操作系統， 可切換手動及自動模式。

操作流程 : 置基板(按鍵)上光罩關閉，鏡頭移入做對準動作， (按鍵)上光罩下壓， 鏡頭移出燈源移入曝光(計時)，燈源移出取，上光罩開啟，取基板。

曝光快門控制 : 計時器控制 0.1-999秒或能量控制 : 0.1~9000mJ/cm2。

具四個防震氣墊，具調整腳及移動輪， 鋁擠型機架加鋁板及黃色PVC抗靜電包覆機臺，開數個操作與維修門窗及視窗。

產量依對位精度及曝光時間而不同可達每分鐘曝三片，

采真空接觸曝光圖形解析可達1um以內(正光阻厚1um)，

采近接式曝光依晶圓與光罩間距設定約在3~5um。