包裝印刷網(wǎng)>產(chǎn)品庫(kù)>印刷設(shè)備>印前設(shè)備>曝光機(jī)>>全手動(dòng)光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)

全手動(dòng)光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)

參考價(jià)	面議

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱德?lián)P光電有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2023/6/8 9:27:51
訪問(wèn)次數(shù)444

產(chǎn)品標(biāo)簽:

在線詢價(jià)收藏產(chǎn)品點(diǎn)擊查看電話

索取相關(guān)資料

公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

本公司成立于2006年,為一小型之設(shè)備制造廠,專精于半導(dǎo)體微影制程之光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)及曝光源之開發(fā)制造,從曝光燈箱內(nèi)的光學(xué)設(shè)計(jì)到各種型式的完整曝光機(jī),本公司經(jīng)多年努力已自行開發(fā)完成,并已出貨國(guó)內(nèi)外眾多客戶。

展開顯示更多內(nèi)容

曝光機(jī)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：全手動(dòng)操作，每一個(gè)動(dòng)作可單獨(dú)操作，適合實(shí)驗(yàn)室研究使用或量產(chǎn)前制程開發(fā)使用。

全手動(dòng)光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī) 產(chǎn)品信息

全手動(dòng)光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)

適合研究單位使用

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

全手動(dòng)操作，每一個(gè)動(dòng)作可單獨(dú)操作，適合實(shí)驗(yàn)室研究使用或量產(chǎn)前制程開發(fā)使用。

曝光燈源

紫外光源機(jī)型有功率 : 350W，500W，1000W，2000W 。

曝光光源尺寸 : 4″，6″，8″，10″，12″，圓或方，波長(zhǎng): NUV(含365nm， 405nm，435nm) 。

光源平行半角 : 1.5~2.5度(依出光口徑) 均勻度: +-3~5%，

高壓汞燈泡及電源供應(yīng)器。

影像系統(tǒng)

采用可變倍率鏡頭方便對(duì)準(zhǔn)操作，標(biāo)準(zhǔn)總倍率50X-300X， CCD攝影機(jī)影像系統(tǒng)，

19吋 LCD螢?zāi)?打光有LED同軸光或環(huán)形光，觀測(cè)的兩點(diǎn)間距4cm-20cm，

可加裝轉(zhuǎn)折鏡到更小間距，可加裝鏡頭掃描臺(tái)以快速移動(dòng)鏡頭，可選配背面對(duì)準(zhǔn)影像系統(tǒng)。

曝光臺(tái)

光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式 4″，5″， 6″， 7″， 9″ 。

晶圓真空吸盤 : 2″， 4″， 5″， 6″，8″，圓或方，具光罩晶圓水平校正功能。

曝光模式有真空接觸式與近接式，可調(diào)整真空吸附力大小 X，Y軸調(diào)整10mm，調(diào)整靈敏度1um， Z軸可調(diào)整5mm，

千分表解析度1um，上光罩以手開啟以取放基板。

操作系統(tǒng)

全手動(dòng)操作系統(tǒng)，每一動(dòng)作均需手動(dòng)操作。

操作流程 : 置基板，手動(dòng)關(guān)下光罩吸盤，鏡頭移入做對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作，chuck上移至曝光位置，鏡頭移出燈源移入曝光(計(jì)時(shí))，燈源移出，光罩吸盤開啟，取出基板，曝光計(jì)時(shí)器時(shí)間設(shè)定:0.1-999秒。

機(jī)座

具四個(gè)防震氣墊，具調(diào)整腳及移動(dòng)輪，不銹鋼支架及盤面，鋁合金桌面及肋板，CDA之調(diào)整真空之顯示，電源輸出入等。

性能

采真空接觸曝光圖形解析可達(dá)1um以內(nèi)(正光阻厚1um)，采近接式曝光依晶圓與光罩間距設(shè)定約在3~5um。