種類: | 基本型 | 多層鎳型 |
測量原理: | 利用與鍍層、基材相對應的電解液、在一起電流所溶解的厚度和時間成正比,來測定膜厚的一種測量方式(即連用電化學中的庫侖法來測定膜厚) | 1、 測量原理于基本型的相同 2、測量電位差是利用不同鎳層之間的電位差異來反映各層鎳的厚度基層閑電位差。 |
可測定材料: | 可被電解液所電解的金屬層鍍層,如:銅、鎳、鉻鋅、銀、金錫等。 | 基本型儀器可測量各種鍍層的厚度及多層鎳的層閑電位差 |
測量范圍: | 0.33微米~99.99微米 | 厚度:0.33微米~99.99微米 電位差:-100mV~+400 mV |
準確度: | ±10 | 厚度:±10 電位差:±5 |
復現精度: | <5 | <5 |
測量值表示: | LED4位顯示,其中兩位為小數。打印數出四位數字,其中兩位為小數。 | 除了擁有LED4位顯示和4位打印輸出以外還有繪圓儀輸出電位差曲線,繪圓儀輸出的圓形是X軸代表電位(mV),Y軸代表厚度(μm)的座標軸上顯示的比例曲線。 |
測量面積: | A橡皮墊圈 φ2.55mm B橡皮墊圈 φ1.7mm | A橡皮墊圈 φ2.5mm B橡皮墊圈 φ1.7mm |
性能特點: | 操作簡便,復現性好,可測量單層、復合層電鍍。內置微電腦,直觀顯示各層厚度。 | 操作簡便,復現性好,可測量單層、復合層電鍍。內置微電腦,經過微電腦處理,直觀顯示各層厚度。 |
設備配置: | 主機、電解池、有機測量架、橡皮墊圈、表標準樣板、打印紙及支架、試劑瓶等 | 主機、電解池、有機測量架、橡皮墊圈、表標準樣板、打印紙及支架、試劑瓶、繪圓儀等 |