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SemiChem 在線濃度監測儀

Entegris在設計和生產用于半導體制造工藝中的化學機械平坦化（CMP）漿料和配方清潔化學品的高精度分析儀器的有豐富的經驗。我們的技術旨在確保復雜混合化學品的精確一致性，并在 CMP和配方清潔工藝中實現高產量。

我們的 SemiChem Advanced Process Monitor （SemiChem 在線濃度監測儀）是集自動取樣、分析和報告關鍵過程的定量化學濃度的化學監測系統。全面的在線化學監測可實時校正漿料成分，從而穩定控制工藝生產條件。該系統可提供分類化學濃度數據。當立即顯現時，可以快速糾正可能對產品質量產生負面影響的變化，有助于滿足更高產品產量的要求。

應用領域

在范圍內，我們安裝了近3000套SemiChem APM系統，用于控制金屬 CMP 濃度。它是控制CMP過氧化物的可靠的中心工具，并被證明在微電子環境中的所有濕化學應用中都具有較好的性能，包括：

·銅，鎢，阻擋層和金屬CMP

·制定清潔

·DSP+

·濕法蝕刻，氮化物蝕刻

·平底蝕刻，食人魚蝕刻

·高頻

·廢水

功能與特點

經驗證的標準電化學技術	提供行業精確的監控，以保證過程化學成分和完整性
	提供化學濃度數據，使漿料/化學分配系統能夠提供準確的化學濃度
在線的，接近實時檢測的系統	檢測揮發性化學物質的工藝偏差，防止產品質量損壞
	將實驗室技術過渡到在線，實現快速準確的在線控制
堅固耐用的工業設計	維持至少8500小時平均工作時間
	可經受嚴峻的工業環境

規格

分析方法	電位測定法，標準加成法，光度測定法
電位測量的準確性*	顯示值的±0.2%
標準添加的準確性*	顯示值的±2.0%
電位測量精度*	±0.2%相對誤差
標準添加精度*	±2.0%相對誤差
測量時間	>5分鐘/次（取決于應用程序）
校準間隔	啟動時**
樣品消耗	<5 ml="">
進樣量	0.05-5 mL（取決于應用）
進樣溫度	最高93°C（200°F）
耗水量	<1000 ml="">
樣品進樣/排樣	<207 kpa="">
樣品進樣/排樣	1/4" OD擴口接頭，1" FPT安全殼聯軸器
去離子水	138至276 kPa（20至40 psi）
	2.0升/分鐘
	外徑 1/4" 擴口接頭
CDA	414-552 kPa（60-80 psi）
CDA	1/4" 外徑快速接頭
排水	工藝：3/4“NPT重力排水管機柜：1/2“NPT重力
電源	110/220 VAC，50/60 Hz，1/0.5 A現場可切換
廢氣	外徑1 7/8" @ 17 CFM