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反射膜厚儀

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產品簡介

簡要描述:反射膜厚儀我們的反射儀的特點是通過樣品的高度和傾斜調整進行準確的單光束反射率測量,光學布局的高光導允許對n和k進行重復測量,對粗糙表面進行測量以及對非常薄的薄膜進行厚度測量

詳細介紹

反射膜厚儀

擴展折射率指數測量極限

我們的反射儀的特點是通過樣品的高度和傾斜調整進行準確的單光束反射率測量,光學布局的高光導允許對n和k進行重復測量,對粗糙表面進行測量以及對非常薄的薄膜進行厚度測量。

紫外-近紅外光譜范圍

RM 1000 430?nm?–?930?nm

RM 2000 200?nm?–?930?nm

高分辨率自動掃描

反射儀RM 1000和RM 2000可以選配x-y自動掃描臺和自動掃描軟件、用于小光斑尺寸的物鏡和攝像機。


反射膜厚儀RM 1000和RM 2000測量具有光滑或粗糙表面的平坦或彎曲樣品的反射率。利用SENTECH FTPadv Expert軟件計算單層或層疊膜的厚度、消光系數和折射率指數。在紫外-可見光- 近紅外光譜范圍內,可以分析5nm~50μm厚度的單層膜、層疊膜和基片。

RM 1000和RM 2000代表SENTECH反射儀。臺式裝置包括高度穩定的光源、具有自動準直透鏡和顯微鏡的反射光學部件、高度和傾斜可調的樣品臺、光譜光度計和電源。它可以選配x-y自動掃描臺和自動掃描軟件、用于小光斑尺寸的物鏡和攝像機。

除了膜厚和光學常數之外,我們的反射儀還可以測量薄膜(例如,AlGaN on GaN,SiGe on Si)、防反射涂層(例如,紋理硅太陽能電池上的防反射涂層、紫外敏感GaN器件上的防反射涂層),以及小型支架上的防反射涂層。該反射儀支持在微電子、微系統技術、光電子、玻璃涂層、平板技術、生命科學、生物技術等領域的應用。

Thickness map of photoresist / Si (substrate) with step size of 50 µm and 25 µmReflection measurement on rough surfacesX-y mapping stage11




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