北京瑞科中儀科技有限公司
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簡要描述：專用電子束光刻系統這些創新、智能配置的電子束光刻系統可以輕松有效地實現納米加工。所有 Raith EBL 系統都配備了高精度激光干涉儀平臺和圖案發生器，可為您的工作提供Z高的精度和速度。其他功能（例如traxx 和 periodixx、無拼接錯誤曝光模式以及Nanosuite（直觀且全面的納米光刻軟件） ）使 Raith 的系統有別于其他納米光刻設備。聯系我們討論哪種系統適合您的需求。
專用電子束光刻系統
自動化、穩定性和吞吐量
EBPG Plus 高性能納米光刻系統可在 100 kV 電壓下提供高達 8 英寸的能力。其全自動化、高速和高分辨率可以為中心的操作以及半導體制造產生的光刻技術。
憑借其創新的架構和具有吸引力的擁有成本，VOYAGER 納米光刻系統降低了高速電子束光刻的準入門檻。
RAITH150 兩個直寫工具提供超高分辨率 EBL 和出色的成像能力。亞 8 納米結構可以在從幾毫米到 8 英寸晶圓的樣品尺寸上實現，而熱穩定性即使在具有挑戰性的環境中也能支持性能。
多技術電子束光刻系統
靈活性、多功能性和 SEM 成像
這種多功能的多技術納米光刻系統將 EBL 系統與用于定制實驗和工藝的開放平臺相結合。eLINE Plus 具有一系列不同的選項，是通用的納米工程 EBL 系統。
EBL-SEM 混合系統將的納米光刻和分析 SEM 成像結合在一個工具中。PIONEER Two 定義了一種新型的經濟型專業電子束光刻系統，適用于納米加工和基于 SEM 的分析。
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