廣州文明機電有限公司
廣州文明機電有限公司
暫無信息 |
JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 節點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統。 zei的技術實現了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復式的光刻系統?
產品特點：
JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 節點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統。
zei的技術實現了高速、高精度和高可靠性。
是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復式的光刻系統
利用步進重復式曝光的優點，結合曝光劑量調整功能及重疊曝光等功能，能支持下一代掩模版/中間掩模版（mask/reticle）圖形制作所需要的多種補償。
產品規格：
| 拼接精度 | ≦±3.8 nm |
| 套刻精度 | ≦±7 nm |
您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
包裝印刷網 設計制作，未經允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
