奧坤鑫（蘇州）機電科技有限公司
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產品特點1.更優良的處理效果：放電面值增加至50mm，對比一般常壓等離子清洗機可提升3~5倍的清洗效果；2.更快速的處理速度：可達8M/min；3.更低的過程處理溫度：過程溫度≤40oC，有效保護產品，不產生熱損傷；4.更穩定的過程控制：等離子放電更穩定，不產生電弧，不產生電損傷；5.更低廉的使用成本：使用氮氣（N?)和壓縮空氣（C...
產品特點
1. 更優良的處理效果：放電面值增加至50mm，對比一般常壓等離子清洗機可提升3~5倍的清洗效果；
2. 更快速的處理速度：可達8M/min；
3. 更低的過程處理溫度：過程溫度≤40oC，有效保護產品，不產生熱損傷；
4. 更穩定的過程控制：等離子放電更穩定，不產生電弧，不產生電損傷；
5. 更低廉的使用成本：使用氮氣（N?)和壓縮空氣（CDA）作為工藝氣體，制氮機可供應，維護費用低；
6. 更少的微塵產生：的電極結構和處理方式，微塵（Particle） 產生最小化。
應用于手機制造、攝像頭、指紋模組、半導體制造、包裝、印刷、涂覆、高分子材料等。
1. LCD(2G~11.5G)，OLED生產制程中廣泛使用；
2. TP（觸摸屏）生產制程中廣泛使用；
3. AF鍍膜（防指紋），AS鍍膜（防刮），AG鍍膜（防炫），AR鍍膜（增透）前處理；
4. 顯示屏全貼合前處理、顯示屏ACF壓合前處理；
5. 金屬薄膜（Cu、Al等）、非金屬薄膜（PET、PI等）卷材涂覆、粘接前表面處理。
類型 | 寬幅等離子體清洗設備 Plasma Cleaning | |||||
型號 | D款：200~800mm（處理寬幅） | |||||
構成 | 等離子電源、UT氣體控制單元、等離子電極單元 | |||||
規格 /性 能 | 工藝氣體 | 功率 | 氣體流量 | 處理間距 | 處理溫度 | 水滴角 |
N2 + CDA | 1 ~4.5KW | N2 ：100-450L/min CDA： 1-9 L/min | 3~12mm | ≤80oC | ≤10 °(100mm/s ) | |
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