HD-550L 攝像頭模組清洗機是攝像頭模組專業清洗機，用于攝像頭類產品，如wafer，CMOS, Holder等表面微塵清洗,攝像頭類模組類產品表面粉塵，雜質專用清洗機器；鏡面銹鋼一體化封閉機身，對工作環境無污染，適合無塵車間使用要求；可更換清洗盤清洗多種產品，清洗盤按產品定做.
詳情說明
機器簡介：
HD-550L是攝像頭模組專業清洗機，用于攝像頭類產品，如wafer，CMOS, Holder等表面微塵清洗。
機器特點：
1、攝像頭類模組類產品表面粉塵，雜質專用清洗機器；
2、鏡面銹鋼一體化封閉機身，對工作環境無污染，適合無塵車間使用要求；
3、可更換清洗盤清洗多種產品，清洗盤按產品定做；
4、PLC自動控制，操作方便快捷；
5、透明防爆前門，安全作業，便于觀察；
6、全系統儀表顯示，隨時監控清洗狀況；
7、采用二流體清洗，清洗精度高，對產品零損傷，純水消耗量極小；
8、旋轉式噴桿，避免二次污染產品；
9、配備靜電消除裝置、腔壁加熱裝置，輔助清洗達到效果；
10、配備2級空氣過濾系統，壓縮空氣符合ISO8573、1標準；
11、機身緊湊，占用面積小；
12、使用超純水清洗，符合RoHS標準。
機器規格：
設備外觀尺寸 | 880mm（L）×960mm（W）×1880mm（H） |
清洗盤規格 | 定制（清洗盤直徑＜?550mm) |
清洗方式 | 二流體清洗 |
干燥方式 | 高速離心甩干 |
電源供應 | AC380V 50HZ |
總功率 | 7KW |
耗電量 | 清洗時: 3.5kw/h | 待機時: 1kw/h |
傳動馬力 | 3HP |
環境過濾方式 | 0.3μm；99.999% |
空氣過濾方式 | 1μm×1；0.01μm×1 |
離心轉速 | 100-1500RPM |
純水消耗量 | 0-7L/Min |
氣體消耗量 | 10-30m3/H |
清洗壓力 | 液體壓力：3-8Kgf/cm2 空氣壓力：0.2-0.5Mpa |
DI水供應 | 流量：＞7LPM 電阻率：＞17MΩ |
氣源供應 | 壓力：0.45-0.7Mpa；流量：＞30m3/H（潔凈度符合清洗要求） |
純水入口徑 | ?12mm軟管或PT1/2″內螺紋 |
氣源入口徑 | ?12mm氣管 |
排水出口徑 | PT 1″內螺紋 |
排氣口口徑 | 4″×2（需加強抽風,風速大于3m/sec） |
機器凈重 | 450KG |
