詳細(xì)摘要： 用于生產(chǎn)半導(dǎo)體干法工藝中芯片表面光刻膠的干法去除，并且也可兼做刻蝕工藝
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：海口市更新時(shí)間：2023-06-29 在線留言印前設(shè)備 印刷機(jī)械 印后設(shè)備 裝訂設(shè)備 廣告設(shè)備 辦公設(shè)備 印刷機(jī)械配件 其它印刷相關(guān)器材 其它印刷設(shè)備
中普尼實(shí)業(yè)集團(tuán)（海南）有限公司
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詳細(xì)摘要： 用于生產(chǎn)半導(dǎo)體干法工藝中芯片表面光刻膠的干法去除，并且也可兼做刻蝕工藝
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詳細(xì)摘要： CPND-3型去膠機(jī)主要是通過(guò)等離子體方法，對(duì)陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進(jìn)行干法去除
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詳細(xì)摘要： CPN-H79-22A型等離子去膠設(shè)備用途：用于生產(chǎn)半導(dǎo)體器件干法工藝中的芯表面光刻膠的干法去除，并且也可兼做刻蝕工藝
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：海口市更新時(shí)間：2023-06-29 在線留言
詳細(xì)摘要： 大容量等離子去膠機(jī)主要供半導(dǎo)體器件、集成電路生產(chǎn)過(guò)程中作等離子去膠工藝用，同時(shí)也可兼作刻蝕工藝使用
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詳細(xì)摘要： 一、主要供半導(dǎo)體器件、集成電路生產(chǎn)過(guò)程中作等離子去膠工藝用，同時(shí)也可兼作刻蝕工藝使用
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：海口市更新時(shí)間：2023-06-29 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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