青島瑞鐳激光科技有限公司
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針對微米、亞微米顆粒的高精密清洗設備產品特點：1. 能滿足其他大型清洗設備所不能達到的清洗需求。2. 操作簡單 通電即可運行，便捷易上手，可用于長時間作業。產品應用領域：1. 半
產品參數
針對微米、亞微米顆粒的高精密清洗設備
產品特點：
1. 能滿足其他大型清洗設備所不能達到的清洗需求。
2. 操作簡單 通電即可運行，便捷易上手，可用于長時間作業。
產品應用領域：
1. 半導體材料、電子電路、芯片制備及3C硬件產業。
2. 芯片、電極、磁頭、磁盤以及各種微電子產品.
產品優勢：
全封閉超凈間設計
長焦深設計
可定制平臺
基本參數：
設備型號/Model | RL-UQ5-A | RL-UQ10-A | RL-UQ20-A |
輸出功率/Average output power | 5W | 10W | 15W |
功率調節范圍/Output tunability | 10-99%（連續可調） | ||
功率穩定性/Stability | 3% | ||
冷卻方式/Cooling | 水冷 | ||
電力要求/Power supply | 單相220V±10% 50-60Hz | ||
環境濕度/Operating humility | 20%-80% | ||
場鏡焦距/Focal length | 50mm-500mm（可選） | ||
掃描路徑/Scanning path | 5種任選 | ||
有效焦深/Rayleith length | 20mm(可定制) | ||
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