北京卓立漢光儀器有限公司
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DVIA-MO 系列高精密主動隔振光學平臺為韓國DAEIL（大一）株式會社生產的主動隔振光學平臺，由臺面和主動隔振支撐兩部分組成。
DVIA-MO 系列高精密主動隔振光學平臺為韓國DAEIL（大一）株式會社生產的主動隔振光學平臺，由臺面和主動隔振支撐兩部分組成。
臺面采用真蜂窩三層夾心式結構，上臺面為熱形變系數很小的430 系列高導磁鎳合金不銹鋼，臺面按照25mmX25mm 孔距均布M6 螺紋孔，方便安裝儀器，每個螺紋孔下方具有獨立的隔離杯，方便清潔。中間是真蜂窩支撐結構，是把0.25 毫米厚度的鋼板加工成蜂巢的結構，增加了臺面結構的密度，減小體積，采用*的粘合工藝，堅固耐用。臺面的底部和側板用碳鋼作為主體材料，具有非常優秀的動態和靜態的剛性。
主動隔振支撐部分主要包括了被動隔振機構和主動隔振器DVIA-M，每個支撐里面一般會有4 個DVIA-M 系列主動隔振器和一臺主控箱。主動隔振器包含了采集信號的傳感器和消除振動的驅動器，主要消除0.5-10Hz 的外部振動, 被動隔振系統部分同時承擔著支撐負載和隔絕高頻率振動的作用。
這個系列的平臺可以在低頻范圍（0.5-10Hz）提供非常隔振性能，它可以應用于很多對振動要求非常高，甚至具有挑戰的領域，比如高分辨率的光譜儀、高分辨率電子顯微鏡和精密納米科學研究和制備等。
應用案例
| 型號 | DVIA-M1000 | DVIA-M2000 | DVIA-M3000 | |
| 尺寸 | 隔振器(mm) | 215x215x180 | 232x232x180 | 308x308x180 |
| 控制器(mm) | 334x357x120 | 334x357x120 | 334x357x120 | |
| *大負載(kg) | 1500-3500 | 1500-3500 | 1500-3500 | |
| 重量(kg) | 15 | 15 | 15 | |
| 驅動方式 | 電機驅動 | |||
| 隔振自由度 | 6個自由度 | |||
| 隔振效率 | 95%-99%at 10Hz | |||
| 回復時間 | <0.5Sec | |||
| 驅動器推力 | 豎直>20N,水平>40N | |||
| 輸入電壓 | AC 85-264/50-60Hz | |||
| 功率消耗 | 峰值功率110W,穩定功率50W | |||
| 空氣壓力 | 大于0.5Mpa | |||
| 環境要求 | 溫度℃ | 5-50°C | ||
| 濕度 | 20%-90% | |||
| 主動隔振頻率范圍 | 0.5-100Hz | |||
| 初始水平調整 | 自動調整 | |||
| 系統配置 | 4個隔振器包含控制箱 | |||
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