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Plasma 1000 ICP光譜儀

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更新時間：2023-09-06 09:35:08瀏覽次數：353次

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產品簡介

詳細介紹

1. 分析流程全自動化控制，實現軟件點火、氣路智能控制功能；

2. 輸出功率自動匹配調諧，功率參數程序設定；

3. 優良的光學系統，*的控制系統，保證峰位定位準確，信背比優良；

4. 極小的基體效應；

5. 測量范圍寬，超微量到常量的分析，動態線性范圍5—6個數量級；

6. 檢出限低，大多數元素的檢出限可達ppb級；

7. 良好的測量精度，穩定性相對標準偏差RSD≤1.5%（5ppm），優于國家標準（JJG768-2005）；

8. Rf輸出功率的范圍750-1500W，輸出功率穩定性小于0.1%；

9. 光電倍增管的負高壓可在0-1000V范圍內獨立可調，可根據不同元素的不同譜線單獨設置條件，和全譜儀器比較有更好的檢出限；

10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全；

11. 高精度的光室恒溫系統，保證儀器優良的長短期精度；

12. 多通道蠕動泵進樣，保證儀器進樣均勻，工作穩定；

13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃，在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m（JJG768-2005規定小于10V/m）。

14. 具有較高的譜線分辨率，能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線，能分出鐵的四重峰。

15. 人性化的軟件設計，操作方便，升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中，進行數據處理，方法編制和結果分析，是真正的多任務工作軟件；該軟件數據處理功能強大，提供了多種方法，如內標校正、IECS和QC監測功能等，可獲得的背景扣除點以消除干擾；對輸出數據可直接打印或自動生成Excel格式的結果報告。