2025-01-01 04:22:0142
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在線詢價圖片描述：
簡要描述：帶預真空室的化學氣相沉積設備PECVD沉積設備SI500PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標準的化學氣相沉積工藝。
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