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磁控濺鍍

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  • 公司名稱北京瑞科中儀科技有限公司
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  • 廠商性質其他
  • 更新時間2025/1/1 5:14:22
  • 訪問次數64
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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導體材料研究分析設備的研發和應用。專業的團隊,專精的服務,提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理,為高校、企業科研工作者提供專業的分析解決方案。以專業技能為導向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業的技術工程師和科研工作者進行現場演示和技術交流,打消顧慮,彼此協作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器。

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半導體材料分析,材料刻蝕
簡要描述:磁控濺鍍沉積為一種物理氣相沉積(PVD)方法,通過從靶材濺鍍出材料,然後沉積至基板上來形成薄膜。在這種技術中,大多使用氬氣或氮氣等離子轟擊靶材,並將基板以適當的距離放置在靶材的前面。
磁控濺鍍 產品信息

磁控濺鍍沉積為一種物理氣相沉積(PVD)方法,通過從靶材濺鍍出材料,然後沉積至基板上來形成薄膜。在這種技術中,大多使用氬氣或氮氣等離子轟擊靶材,並將基板以適當的距離放置在靶材的前面。由於碰撞的動量,離子中的正離子將以很高的速度轟擊靶材。這些顆粒以薄膜的形式沉積在基板表面上。根據靶材的不同,可以適當調整濺鍍槍的功率,例如用於導電靶材的直流電源和用於非導電靶材的射頻電源。
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如今,磁控濺鍍沉積製程已成為一種在半導體、LCD面板、太陽能面板和光學元件等許多應用中的核心技術,其薄膜的均勻性和大規模的商業效率比熱蒸發材料方法更為重要。

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