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美國無掩膜曝光機供應(yīng)商

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱科睿設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2025/7/20 0:56:48
  • 訪問次數(shù)230
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科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理。科睿公司一貫秉承『誠信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國用戶提供儀器、設(shè)備,周到的技術(shù)、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異、國力飛速發(fā)展的中國,納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā)、有機高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達國家*接軌的儀器設(shè)備平臺來實現(xiàn)。科睿設(shè)備有限公司有幸成長在這個火熱的年代,我們愿意化為一座橋梁,見證中國科技水平的提升,與中國科技共同飛速成長。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國香港,在中國上海設(shè)立了分公司,在國內(nèi)多個城市設(shè)立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉庫及維修中心,同時提供在大陸的各項技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時電話響應(yīng),72小時內(nèi)趕到現(xiàn)場維修。以利于更好、更快的為中國大陸服務(wù)!
      因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導(dǎo)體所,中科院大連化學(xué)物理研究所,國家納米中心,上海納米中心,北京大學(xué),清華大學(xué),中國科技大學(xué),南京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),上海交通大學(xué),華東理工大學(xué),浙江大學(xué),中山大學(xué),西安交通大學(xué),四川大學(xué),中國工程物理研究院,香港大學(xué),香港城市大學(xué),香港中文大學(xué),香港科技大學(xué)等。



光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測試系統(tǒng)
無掩膜曝光機美國IMP(Intelligent Micro Patterning,LLC)公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗和多項無掩模曝光技術(shù),已成為無掩模紫外光刻領(lǐng)域的。國內(nèi)參考用戶較多!
美國無掩膜曝光機供應(yīng)商 產(chǎn)品信息

無掩膜曝光機

美國IMP(Intelligent Micro Patterning,LLC)公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗和多項無掩模曝光技術(shù),已成為無掩模紫外光刻領(lǐng)域的。國內(nèi)參考用戶較多!

     產(chǎn)品優(yōu)點:
     微米和亞微米光刻,最小0.6微米光刻精度
      紫外光直寫曝光,無需掩模,大幅節(jié)約了掩模加工費用
     靈活性高,可直接通過電腦設(shè)計光刻圖形,并可根據(jù)設(shè)計要求隨意調(diào)整。
      可升級開放性系統(tǒng)設(shè)計。
      按照客戶要求可從低端到自由配置
     使用維護簡單, 設(shè)備耗材價格低。
      應(yīng)用范圍廣,目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物芯片、微機電系統(tǒng)、傳感器、微化學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域。

    SF-100 型
      可配置汞燈光源和LED光源,多種波長曝光(385nm, 405nm)

      目鏡最小像素 1um
      1.25 micron with 4X reduction lens
      0.50 micron with 10X reduction lens
      0.25 micron with 20X reduction lens

  無掩膜曝光機

 平臺參數(shù)
      全自動電腦控制位移
      高精度三維線性驅(qū)動樣品臺

     

 X and Y 軸運動:
      移動范圍: 100--300mm
      準(zhǔn)確性: +/-200 nm per axis
      重復(fù)性: +/- 50 nm per axis
    

  Z 軸運動:
      移動范圍: 25 mm
      準(zhǔn)確性: +/- 200 nm
      重復(fù)性: +/- 75 nm
     

 Theta 轉(zhuǎn)動:
      轉(zhuǎn)動角度: 360 degrees
      準(zhǔn)確性: +/-5 arc sec
      重復(fù)性: +/-2 arc sec

 
激光共聚焦對準(zhǔn)功能

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