EM3i系統(tǒng)是一種專用、自動化、省時且用戶友好的系統(tǒng),可在廣泛的應(yīng)用中為橫截面和平面視圖提供 TEM/STEM 和 SEM 樣品制備。EM3 系統(tǒng)采用低溫冷卻干鋸工藝,可制備結(jié)晶或無定形材料的樣本。輸出樣本安裝在兼容的 TEM 支架上,允許返工。
系統(tǒng)亮點
適用于特定場地和一般區(qū)域
允許對 TEM 樣品進(jìn)行多次返工
與廣泛而集中的離子銑削接口
提高總體吞吐量
改進(jìn)產(chǎn)量分析
改善表征
擁有成本低
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防紫外線遮蔽膠技術(shù)
通過離子銑削制備 TEM 薄片樣品的過程需要遮蔽目標(biāo)區(qū)域,以防止過度銑削目標(biāo),并允許實現(xiàn)極薄的 TEM 薄片而沒有偽影。
的 Protected UV Masking Glue 的之處在于它能夠防止高能離子束過度研磨目標(biāo),填充晶圓工藝光刻中的非常小的空間,并保護(hù)晶圓頂層的極薄薄片免受離子損壞光束。
Protected UV Masking Glue 的工作原理
防紫外線遮蔽膠的性能
Protected Masking Glue 具有導(dǎo)電性,可避免在離子銑削過程中帶電。
Protected Masking Glue對不同的晶圓材料有很強的附著力。
Protected Masking Glue 具有低粘度和納米尺寸的導(dǎo)電材料,可以填充晶圓光刻中小至幾納米尺寸的狹窄空間。
Protected Masking Glue 可在幾十秒內(nèi)進(jìn)行紫外線固化。
EM3i 系統(tǒng)中使用受保護(hù)的 UV 掩蔽膠技術(shù)來保護(hù)目標(biāo)區(qū)域,以便通過自適應(yīng)離子銑削進(jìn)行后續(xù) TEM 樣品制備。當(dāng)掩模的導(dǎo)電性很關(guān)鍵時,這種保護(hù)方法可用于防止不同目的的目標(biāo)和區(qū)域的損壞。
查看EM3i系統(tǒng)中如何使用 UV 遮蔽膠
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