一、設備概述
   平行光曝光機專門用于FILM黃光制程而設計制作的專用設備，系統采用進口平行光源、雙工位抽屜進出曝光平臺交替工作進行FILM濕膜、干膜曝光。雙工位平臺真空吸附將FILM與MASK貼緊，曝光解析度20UM。
 
二、設備規格以及主要技術指標
◆產品規格:有效曝光面積400MM x 500MM
曝光平臺面積> 500MM x 600MM
◆電源: AC380V 3f 50HZ 7KVA
◆機臺外尺寸: W1350MM x L3250MM x H2350MM
◆曝光方式:單面曝光玻璃VS玻璃x 2組，采用電磁鎖控制
◆曝光燈管: 5KW x 1PCS(平行光曝光燈)曝光光強> 20MW/Cm，燈管保用800H
◆光學系統:采用進口曲面MIRROR反射光學系統
◆曝光均勻度: > 90%
◆冷卻系統:燈管:外部冰水冷卻內循環水.臺面:強制氣冷式
◆曝光控制器:智慧型人機界面及曝光能量控制(能量模式及時間模式)
◆真空系統: 400MMHG以上
◆燈源: UV能量積分器進行曝光能量設置和控制主動風冷式降溫保護(有緊急停止保護)
◆空壓系統: 4-7KF/CM2,中12MM, 200L /MIN
◆平行半角: DA<2。
◆曝光精度:線路寬30UM，線間距30UM
◆曝光能量設置: 365NM
◆點燈計時:配置時間計時器，可清零
◆平臺平面精度: 0.02MM內
◆平臺真空:平臺真空將FILM與MASK貼緊(使用鉻版時可不用）
◆平臺進出曝光區:上下框架交替進出
◆機內環境: CL ASS100內檢測系統:程序及傳感器檢測動作到位狀況
◆燈管保護:燈室過熱檢知及門打開時UV燈強制熄滅